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發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計規范 GB51209-2016

發(fā)布時(shí)間:2024-02-17
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中華人民共和國國家標準

發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計規范

Code for design of light emitting diode plant

GB 51209-2016

主編部門(mén):中華人民共和國工業(yè)和信息化部

批準部門(mén):中華人民共和國住房和城鄉建設部施行日期:2017年7月1日

中華人民共和國住房和城鄉建設部公告第1352號

住房城鄉建設部關(guān)于發(fā)布國家標準《發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計規范》的公告

現批準《發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計規范》為國家標準,編號為GB 51209-2016,自2017年7月1日起實(shí)施。其中,第8.2.3、8.3.3(1)、8.3.9、8.3.11、10.2.9條(款)為強制性條文,必須嚴格執行。

本規范由我部標準定額研究所組織中國計劃出版社出版發(fā)行。

中華人民共和國住房和城鄉建設部

2016年10月24日


前言

根據住房城鄉建設部《關(guān)于印發(fā)<2010年工程建設標準規范制訂、修訂計劃>的通知》(建標[2010]43號)的要求,由工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院電子工程標準定額站與中國電子工程設計院會(huì )同有關(guān)單位共同編制完成。

在規范編制過(guò)程中,編寫(xiě)組根據我國發(fā)光二極管工廠(chǎng)的設計、建造和運行的實(shí)際情況,進(jìn)行了廣泛的調查研究,收集了有關(guān)發(fā)光二極管工廠(chǎng)的設計要求,認真總結實(shí)踐經(jīng)驗,同時(shí)考慮我國目前生產(chǎn)的現狀,參考國外有關(guān)的標準規范,廣泛征求了國內有關(guān)單位與專(zhuān)家意見(jiàn),最后經(jīng)審查定稿。

本規范共分13章和3個(gè)附錄,主要技術(shù)內容包括:總則,術(shù)語(yǔ),基本規定,工藝,總圖,建筑,結構,動(dòng)力及氣體工程,供暖、通風(fēng)、空氣調節與凈化,給水排水,電氣,防靜電和空間管理等。

本規范中以黑體字標志的條文為強制性條文,必須嚴格執行。

本規范由住房城鄉建設部負責管理和對強制性條文的解釋?zhuān)晒I(yè)和信息化部負責日常管理,由中國電子工程設計院負責具體技術(shù)內容的解釋。執行過(guò)程中如有意見(jiàn)或建議,請寄送中國電子工程設計院(地址:北京市海淀區西四環(huán)北路160號,郵政編碼:100142,傳真:010-88193999),以便今后修訂時(shí)參考。

本規范主編單位、參編單位、主要起草人和主要審查人:

主編單位:工業(yè)和信息化部電子工業(yè)標準化研究院電子工程標準定額站

中國電子工程設計院

參編單位:世源科技工程有限公司

信息產(chǎn)業(yè)電子第十一設計研究院科技工程股份有限公司

上海電子工程設計研究院有限公司

廈門(mén)市三安光電股份有限公司

主要起草人:羅橋 張東 晁陽(yáng) 趙廣鵬 鄭秉孝 李驥 秦學(xué)禮 肖紅梅 李錦生 吳曉斌 鐘景華 張曉敏 韓方俊 薛長(cháng)立 陳陣 李志偉 黃繼紅 云庚 王立 趙玉娟

主要審查人:徐征 杜寶強 呂婌宜 張同億 任兆成 李道本 任向東 施紅平 劉國旭

以下規范內容由合景凈化工程公司http://www.store-for-less.com/進(jìn)行整理編輯


1總則

1.0.1 為規范發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計,做到安全適用、確保生產(chǎn)、經(jīng)濟合理、技術(shù)先進(jìn)、環(huán)境保護,制定本規范。

1.0.2 本規范適用于新建、擴建和改建的發(fā)光二極管工廠(chǎng)的工程設計。

1.0.3 發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計除應執行本規范外,尚應符合國家現行有關(guān)標準的規定。


2術(shù)語(yǔ)

2.0.1 發(fā)光二極管 light emitting diode(LED)

一種能夠將電能轉化為可見(jiàn)光的固態(tài)半導體器件。

2.0.2 外延 epitaxy

在單晶襯底(基片)上生長(cháng)一層或多層有一定要求的、與襯底晶向相同或相似的單品層的生長(cháng)技術(shù)。

2.0.3 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積 metal-organic chemical vapor deposition(MOCVD)

以Ⅲ族、Ⅱ族元素的金屬有機化合物和Ⅴ、Ⅵ族元素的氫化物等作為品體生長(cháng)原材料,以熱分解反應方式在襯底上進(jìn)行氣相外延,生長(cháng)各種Ⅲ-Ⅴ族、Ⅱ-Ⅵ族化合物半導體及其多元薄層單晶材料的工藝過(guò)程。

2.0.4 空間管理 space management

為有效利用空間、縮短工作流程,對大到整個(gè)廠(chǎng)區的建筑物布局、地下管線(xiàn)規劃,小到一棟建筑物內部各個(gè)專(zhuān)業(yè)間的配置協(xié)調而進(jìn)行的設計。


3基本規定

3.0.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計應滿(mǎn)足發(fā)光二極管產(chǎn)品生產(chǎn)工藝要求,并應根據具體情況為今后生產(chǎn)發(fā)展或生產(chǎn)工藝改進(jìn)的需要預留條件。

3.0.2 發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計應根據生產(chǎn)工藝的特點(diǎn),采用節能環(huán)保的新技術(shù)、新設備、新材料。

3.0.3 發(fā)光二極管工廠(chǎng)設計應為施工安裝、調試檢測和安全運行、維護管理創(chuàng )造條件。


4工藝

4.1 一般規定

4.1.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)工藝設計應符合下列規定:

1 采用效率高的生產(chǎn)工藝;

2 提高工藝流程的合理性;

3 采用經(jīng)濟、適用的工藝參數;

4 具有適度的靈活性和適應性。

4.1.2 工藝設計應滿(mǎn)足工藝生產(chǎn)的要求,并為產(chǎn)品的規?;a(chǎn)、升級改造預留下列條件:

1 工藝設備數量增加、工藝設備占地面積增加所需要的面積條件;

2 工藝設備變更、工藝設備高度增加所需要的空間條件;

3 工藝設備變更、工藝設備數量增加所需要增加的動(dòng)力條件。

4.1.3 生產(chǎn)線(xiàn)的產(chǎn)能設計應符合經(jīng)濟規模要求;當生產(chǎn)線(xiàn)需分期實(shí)施時(shí),工藝設計中應預留動(dòng)力條件。

4.1.4 工藝設計應明確生產(chǎn)環(huán)境和動(dòng)力供應要求,并應滿(mǎn)足生產(chǎn)工藝和設備正常運行的要求。主要工序生產(chǎn)環(huán)境要求可按照附錄A執行。

4.1.5 工藝設計應明確工藝生產(chǎn)動(dòng)力品質(zhì)要求。發(fā)光二極管生產(chǎn)工藝動(dòng)力品質(zhì)要求可按照附錄B執行。

4.1.6 主要生產(chǎn)車(chē)間的生產(chǎn)設備宜連續運轉,其他輔助生產(chǎn)車(chē)間可根據其具體特點(diǎn)靈活配套。

4.2 基本工序與生產(chǎn)協(xié)作

4.2.1 生產(chǎn)的基本工序應根據產(chǎn)品的生產(chǎn)工藝確定。生產(chǎn)工序可根據附錄C所列的工藝流程確定。

4.2.2 生產(chǎn)的主要工序宜完整,輔助生產(chǎn)工序可通過(guò)外協(xié)方式完成。

4.2.3 在工藝設計中,根據外協(xié)的具體內容及要求設置滿(mǎn)足外部協(xié)作需要的相關(guān)配套設施。

4.2.4 工藝設計應滿(mǎn)足發(fā)光二極管工廠(chǎng)的生產(chǎn)、輔助生產(chǎn)、管理和運營(yíng)設施、勞動(dòng)安全、職業(yè)衛生和環(huán)境保護等管理、檢測、教育和培訓設施的設計要求。

4.3 工藝區劃

4.3.1 生產(chǎn)廠(chǎng)房?jì)鹊墓に嚬δ軈^應依據生產(chǎn)的工藝流程,按照生產(chǎn)的基本工序進(jìn)行劃分,相同的工序宜集中布置。典型的工藝流程可按照附錄C設置。

4.3.2 生產(chǎn)廠(chǎng)房?jì)鹊墓に噮^應分別設置人員出入口、物料出入口。

4.3.3 工藝平面布置應設置設備搬入口和設備搬入通道。

4.3.4 生產(chǎn)區的參觀(guān)設施,應與生產(chǎn)環(huán)境相隔離。

4.4 設備布置

4.4.1 振動(dòng)敏感設備宜遠離振動(dòng)源布置。

4.4.2 生產(chǎn)設備宜根據工藝流程集中布置,并考慮設備搬運、維修空間。

4.4.3 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積設備及其輔助設備宜集中布置。

4.4.4 氣瓶柜、尾氣處理設備、氣體純化柜等金屬有機化學(xué)氣相沉積設備的輔助設備的布置方式,應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016和《特種氣體系統工程技術(shù)規范》GB 50646的有關(guān)規定。


5總圖

5.1 廠(chǎng)址選擇

5.1.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)的廠(chǎng)址選擇應按建設規模、原材料供應、供電、供水、供氣、工程地質(zhì)和企業(yè)協(xié)作條件、場(chǎng)地現有設施、環(huán)境保護等因素進(jìn)行技術(shù)經(jīng)濟比較后確定。

5.1.2 廠(chǎng)址選擇應符合下列規定:

1 避免生產(chǎn)的危險或有害因素對周邊人群居住或活動(dòng)環(huán)境造成污染與危害;

2 避開(kāi)空氣經(jīng)常受懸浮物污染的地區;

3 場(chǎng)地應相對平整,距外界強振源較遠。

5.1.3 廠(chǎng)址不應選擇在下列地區:

1 易受洪水、潮水、內澇威脅的區域;

2 工程地質(zhì)、水文復雜的地帶和地震設防烈度高于9度的地區;

3 采礦陷落(錯動(dòng))區界限內;

4 重要的供水水源衛生保護區;

5 Ⅳ級自重濕陷性黃土、厚度大的新近堆積黃土、高壓縮性的飽和黃土和Ⅲ級膨脹土等工程地質(zhì)地區;

6 有用礦藏地區。

5.2 總平面布置

5.2.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)總體規劃,應符合所在地區的區域規劃、城鎮規劃的要求。

5.2.2 總平面布置應符合下列規定:

1 主廠(chǎng)房宜根據生產(chǎn)工藝特點(diǎn)和各種功能區的要求,按組合式、大體量的綜合性廠(chǎng)房布置;

2 廠(chǎng)區內生產(chǎn)區、動(dòng)力輔助區、倉儲區和辦公、生活區等功能區域應合理布置;

3 有微振控制要求的潔凈廠(chǎng)房總平面布置時(shí),應考慮鄰近存在較大振動(dòng)的振源對精密設備、儀器的振動(dòng)影響;

4 工廠(chǎng)的動(dòng)力設施宜集中布置并靠近工廠(chǎng)的負荷中心;

5 廠(chǎng)區人流和物流的出入口宜分開(kāi)設置;原料物料的運輸路線(xiàn)應短捷、方便,避免人流和物流之間的混雜和交叉。

5.2.3 廠(chǎng)區給水、排水、循環(huán)水及動(dòng)力電纜等管線(xiàn)宜選用地下敷設方式;廠(chǎng)區易燃可燃液體、燃氣、熱力、壓縮空氣及保護氣體、通信信號電纜等管線(xiàn)宜選用地上管架敷設方式;地上、地下管線(xiàn)的布置應符合現行國家標準《工業(yè)企業(yè)總平面設計規范》GB 50187的有關(guān)規定。

5.2.4 廠(chǎng)區道路面層應選用整體性能好、發(fā)塵少的材料。

5.2.5 廠(chǎng)區應合理進(jìn)行綠化,但不宜種植對生產(chǎn)環(huán)境和產(chǎn)品質(zhì)量有影響的植物。


6建筑

6.1 一般規定

6.1.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)可由生產(chǎn)廠(chǎng)房、動(dòng)力廠(chǎng)房、化學(xué)品庫、氣站、倉庫及辦公樓等建筑組成。

6.1.2 生產(chǎn)廠(chǎng)房的建筑平面和空間布局,應根據生產(chǎn)工藝、工藝改造和擴大生產(chǎn)規模的要求確定。

6.1.3 生產(chǎn)廠(chǎng)房圍護結構材料的選擇應滿(mǎn)足生產(chǎn)對環(huán)境的氣密、保溫、隔熱、防火、防潮、防塵、耐久、易清洗等要求。外圍護結構及節點(diǎn)部位的內表面溫度不應低于室內空氣露點(diǎn)溫度。

6.1.4 技術(shù)夾層、技術(shù)夾道應滿(mǎn)足各種風(fēng)管和各種動(dòng)力管線(xiàn)安裝、維修要求。穿越樓層的豎向管線(xiàn)需暗敷時(shí),宜設置技術(shù)豎井,其形式、尺寸和構造應滿(mǎn)足風(fēng)管、管線(xiàn)的安裝、檢修和防火要求。

6.1.5 廠(chǎng)房的平面布局和構造處理,宜避免人流、物流運輸及防火對潔凈生產(chǎn)環(huán)境帶來(lái)不利的影響。生產(chǎn)輔助部門(mén)等與生產(chǎn)密切聯(lián)系的部門(mén)應盡量靠近生產(chǎn)區。

6.1.6 廠(chǎng)房?jì)纫嗽O置工藝設備、動(dòng)力設備的搬入及運輸安裝通道;通道寬度應滿(mǎn)足人員操作、物料運輸、設備安裝、檢修的要求。

6.1.7 廠(chǎng)房室內裝修應符合現行國家標準《建筑內部裝修設計防火規范》GB 50222和《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定。

6.2 防火及安全疏散

6.2.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)建筑的耐火等級不應低于二級。

6.2.2 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積間的火災危險性分類(lèi)在滿(mǎn)足下列條件時(shí)應按丙類(lèi),否則應按甲類(lèi)設防:

1 設備密閉性良好;

2 設有氣體或可燃蒸汽報警裝置和滅火裝置。

6.2.3 其他生產(chǎn)區的火災危險性分類(lèi),應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016和《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定。

6.2.4 廠(chǎng)房?jì)确阑鸱謪^的劃分,應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016和《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定。

6.2.5 廠(chǎng)房安全出口的設置、安全疏散距離應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016和《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定。

6.2.6 危險化學(xué)品儲存區域和分配區不得設置在人員密集房間和疏散走廊的上方、下方或貼鄰;特氣間、氣體純化間等有爆炸危險性房間應靠外墻布置,房間泄壓面積應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016的有關(guān)規定。

6.2.7 易燃易爆化學(xué)品儲存間、分配間,應采用不發(fā)生火花的防靜電地面;腐蝕性化學(xué)品儲存間、分配間應采用防腐蝕地面。


7結構

7.1 一般規定

7.1.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)光刻機等精密設備基礎應滿(mǎn)足微振動(dòng)控制的要求。

7.1.2 產(chǎn)生較大振動(dòng)的設備基礎宜遠離光刻機等精密設備區域;當無(wú)法遠離時(shí),對產(chǎn)生較大振動(dòng)的設備應采取有效的隔振措施。

7.1.3 生產(chǎn)廠(chǎng)房工藝生產(chǎn)區的結構不宜設置伸縮縫。

7.2 結構設計

7.2.1 發(fā)光二極管生產(chǎn)廠(chǎng)房可根據工藝生產(chǎn)要求采用下列結構體系:

1 單層排架結構體系;

2 單層門(mén)式剛架鋼結構體系;

3 多層框架結構體系;

4 多層框排架結構體系。

7.2.2 精密設備基礎宜避開(kāi)廠(chǎng)房柱基礎;無(wú)法避開(kāi)時(shí),應考慮廠(chǎng)房柱基礎沉降引起精密設備基礎的地基變形計算。

7.2.3 光刻機等精密設備基礎在首層的微振動(dòng)控制應根據其特性,采取防微振措施,并應符合下列規定:

1 首層應做鋼筋混凝土地面,厚度不宜小于250mm;

2 設備基礎厚度不宜小于800mm,并應與首層的鋼筋混凝土地面連為一體;

3 有沖擊荷載的設備應遠離光刻機等精密設備,且宜在有沖擊荷載設備的周邊設置隔振溝;

4 精密設備的基礎安全等級應不低于二級。

7.2.4 樓層和屋頂的普通設備基礎應符合下列規定:

1 不宜采用整片的鋼筋混凝土基礎,宜根據設備支承點(diǎn)位置采用鋼筋混凝土支墩或鋼筋混凝土條形基礎;

2 設備基礎不應跨越伸縮縫;

3 設備基礎宜布置在柱頂、主梁或次梁上。

7.2.5 應考慮樓層上設備的布置范圍和運輸安裝區域的荷載,并對受此荷載影響的梁、柱和基礎根據正常使用極限狀態(tài)和承載能力極限狀態(tài)的要求進(jìn)行驗算。

7.2.6 生產(chǎn)廠(chǎng)房樓層、屋頂應按照實(shí)際吊掛的管道、吊頂建筑做法等,計算吊掛荷載標準值,但不宜小于0.50kN/m2。

7.2.7 用于吊掛管道的預埋件宜在鋼筋混凝土梁的梁側設置,應根據水管的重量和吊掛點(diǎn)的間距驗算預埋件的承載力。


8動(dòng)力及氣體工程

8.1 冷熱源

8.1.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)人工冷熱源宜采用集中設置的冷(熱)水機組和供熱、換熱設備。機型和設備選擇,應根據工廠(chǎng)所在地區的氣候、能源結構、政策、價(jià)格及環(huán)保規定,按下列規定綜合比較確定:

1 熱源應優(yōu)先采用城市、區域供熱和工廠(chǎng)余熱;

2 具有城市工業(yè)燃氣供應的地區,可采用燃氣鍋爐、燃氣熱水機組供熱或燃氣吸收式冷(熱)水機組供冷、供熱;

3 工廠(chǎng)也可采用燃煤鍋爐、燃油鍋爐供熱.電動(dòng)壓縮式冷水機組供冷或燃油吸收式冷(熱)水機組供冷、供熱;

4 在夏熱冬冷地區的辦公樓、生活區可采用空氣源熱泵或地源熱泵冷(熱)水機組供冷、供熱。

8.1.2 同時(shí)需要供冷和供熱時(shí),冷水機組宜根據負荷要求選用熱回收機組,并采用自動(dòng)控制的方式調節機組的供熱量。

8.1.3 冷熱源設備臺數和單臺容量應根據全年冷熱負荷工況合理選擇,并應保證設備在高、低負荷工況下均能安全、高效運行。

8.1.4 過(guò)渡季節或冬季需用一定量的供冷負荷時(shí),可利用冷卻塔作為冷源設備。

8.1.5 在滿(mǎn)足工藝及空調用冷凍水溫度的前提下,應加大冷凍水供、回水溫差和提高冷水機組的出水溫度。

8.1.6 當冷負荷變化較大時(shí),經(jīng)過(guò)經(jīng)濟技術(shù)比較,冷源系統的部分或全部設備宜采用變頻調速控制。

8.1.7 電動(dòng)壓縮式冷水機組的裝機容量應符合現行國家標準《工業(yè)建筑供暖通風(fēng)與空氣調節設計規范》GB 50019的有關(guān)規定。

8.1.8 電動(dòng)壓縮式制冷機組的制冷劑應符合有關(guān)環(huán)保的要求,當采用過(guò)渡制冷劑時(shí),其使用年限應符合相關(guān)要求。

8.1.9 燃油燃氣鍋爐應選用帶比例調節燃燒器的全自動(dòng)鍋爐,且每臺鍋爐宜獨立設置煙囪,煙囪的高度應滿(mǎn)足項目環(huán)境評價(jià)文件的要求,并應符合現行國家標準《鍋爐大氣污染物排放標準》GB 13271的有關(guān)規定。

8.1.10 鍋爐排放的大氣污染物,應符合大氣污染物排放標準的要求,并應符合現行國家標準《鍋爐大氣污染物排放標準》GB 13271和《大氣污染物綜合排放標準》GB 16297的有關(guān)規定。

8.2 大宗氣體供應

8.2.1 大宗氣體管道系統設計應符合下列規定:

1 大宗氣體的供氣方式應根據氣體用量、氣體品質(zhì)和當地的供氣狀況等因素,經(jīng)技術(shù)經(jīng)濟比較后確定;

2 氫氣、氧氣管道的終端或最高點(diǎn)應設置放散管,放散管應引至室外并高出建筑的屋脊1m,氫氣放散管道上應設置阻火器;

3 潔凈室內的氫氣管道應明敷,穿過(guò)潔凈室的墻壁或樓板處的管段應設置套管,套管內的管道不應有焊縫,套管與管道之間應采取密封措施;

4 氫氣管道不得穿過(guò)不使用氫氣的房間;當必須穿過(guò)時(shí)應設套管或使用雙層管。

8.2.2 高純氣體管道設計應符合下列規定:

1 管徑應按氣體容許流量、壓力或生產(chǎn)工藝設備確定,管外徑不宜小于6mm;

2 管道布置不應出現不易吹除的“盲管”等死空間;

3 管道系統應設置吹掃口和取樣口。

8.2.3 設有氫氣等可燃氣體裝置的氣體純化間或氣體入口室的火災危險性應按甲類(lèi)確定,并應符合下列規定:

1 應靠外墻設置,并應設置防爆泄壓設施;

2 氫氣等可燃氣體引入管道上應設置自動(dòng)切斷閥;

3 應具有機械通風(fēng)裝置,并應設置事故排風(fēng)裝置;

4 應設置氣體泄漏報警裝置,并應與事故排風(fēng)裝置聯(lián)鎖。

8.2.4 大宗氣體管道和閥門(mén)應根據生產(chǎn)工藝要求選擇,并應符合下列規定:

1 氣體純度大于或等于99.9999%時(shí),宜采用內壁電拋光的奧氏體超低碳不銹鋼管,閥門(mén)應采用隔膜閥、波紋管閥;

2 氣體純度大于或等于99.999%、露點(diǎn)低于—76℃時(shí),宜采用內壁電拋光的奧氏體超低碳不銹鋼管或內壁電拋光的低碳奧氏體不銹鋼管,閥門(mén)宜采用隔膜閥或波紋管閥;

3 氣體純度大于或等于99.99%、露點(diǎn)低于—60℃時(shí),宜采用內壁拋光的奧氏體不銹鋼管,除可燃氣體管道宜采用波紋管閥外,其余氣體管道可采用球閥;

4 氣體管道閥門(mén)、附件的材質(zhì)宜與相連接的管道材質(zhì)一致。

8.2.5 氣體管道連接應符合下列規定:

1 管道連接應采用焊接,不銹鋼管宜采用自動(dòng)氬弧焊或等離子熔透對接焊;

2 管道與設備或閥門(mén)的連接,宜采用表面密封的接頭或雙卡套,接頭或雙卡套的密封材料宜采用金屬墊或聚四氟乙烯墊;

3 管道與設備的連接應符合設備連接的要求,當采用軟管連接時(shí),應采用金屬軟管。

8.3 特種氣體供應

8.3.1 特種氣體應采用外購鋼瓶氣體、液態(tài)氣體,在工廠(chǎng)內設置儲存、分配系統。

8.3.2 特種氣體儲存分配系統設備,應根據特種氣體的性質(zhì)和儲存數量布置在獨立的建構筑物內,或布置在生產(chǎn)廠(chǎng)房?jì)取?/span>

8.3.3 特種氣體系統的氣瓶柜、氣瓶架的設置應符合下列規定:

1 不相容氣體瓶嚴禁放置于同一氣瓶柜或氣瓶架中;

2 不相容的特種氣體的氣瓶架應布置在不同房間里;當布置在同一房間時(shí),不相容特種氣體的氣瓶柜、氣瓶架之間的距離應大于6m;

3 氣瓶柜閉門(mén)時(shí)的排風(fēng)換氣次數不得低于300次/h,且氣瓶柜應保持負壓;

4 自燃、可燃、毒性、腐蝕性氣瓶柜應在排風(fēng)出口設置氣體泄漏探測器;

5 氣瓶柜門(mén)應具備自動(dòng)關(guān)閉功能,并應配備防爆玻璃觀(guān)察窗;氣瓶柜應采取抗震措施,設計應滿(mǎn)足當地抗震設防烈度的要求。

8.3.4 可燃、自燃特種氣體的氣瓶柜應符合下列規定:

1 硅烷氣瓶柜閉門(mén)時(shí)的排風(fēng)換氣次數不得低于1200次/h,且應連續監控氣瓶柜的負壓;

2 自燃特種氣體的氣瓶柜應設置紫外、紅外火焰探測器及水噴淋系統;

3 可燃特種氣體的氣瓶柜應設置水噴淋系統;

4 自燃、可燃特種氣體的氣瓶柜應在氣瓶之間設置隔離鋼板。

8.3.5 特種氣體系統吹掃氮氣的設置,應符合下列規定:

1 特種氣體系統的吹掃氮氣應與獨立的氮氣源連接,不得與公用氮氣或工藝氮氣系統相連;

2 不相容性特種氣體系統的吹掃氮氣不得共用同一氮氣源;

3 吹掃氮氣管線(xiàn)應設置止回閥。

8.3.6 特種氣體排氣與廢氣處理的設置應符合下列規定:

1 特種氣體系統的排氣管應設置氮氣稀釋與連續吹掃;

2 不相容性特種氣體的排氣不得接入同一排氣主管;

3 自燃、可燃、毒性、腐蝕性特種氣體的排氣應經(jīng)過(guò)尾氣處理裝置進(jìn)行處理,排放應符合現行國家標準《大氣污染物綜合排放標準》GB 16297的有關(guān)規定。

8.3.7 生產(chǎn)廠(chǎng)房?jì)鹊目扇己投拘蕴胤N氣體管道應明敷,穿過(guò)生產(chǎn)區墻壁與樓板處的管段應設置套管,套管內的管道不得有焊縫,套管與管道之間應采用密封措施??扇?、毒性、腐蝕性氣體管道的機械連接處,應置于排風(fēng)罩內。

8.3.8 特種氣體和吹掃氣體的管道和管件應采用奧氏體超低碳不銹鋼無(wú)縫鋼管,內表面應進(jìn)行潔凈和鈍化處理。

8.3.9 自燃、可燃、氧化性特種氣體管道,應設置靜電泄放的接地設施。

8.3.10 室外布置的特種氣體管道應架空布置。

8.3.11 當特種氣體為硅烷、磷烷、砷烷時(shí),應采用雙層管道設計。

8.3.12 特種氣體采用雙層管輸送時(shí),雙層管的外層管道宜采用SS304奧氏體不銹鋼管道,內層管道應與所輸送特種氣體的性質(zhì)匹配。

8.4 動(dòng)力氣體供應

8.4.1 干燥壓縮空氣系統應根據生產(chǎn)工藝對供氣量和供氣品質(zhì)等因素確定,并應符合下列規定:

1 干燥壓縮空氣系統的供氣規模應按生產(chǎn)工藝所需實(shí)際用氣量及系統損耗量確定;

2 供氣設備可集中布置在生產(chǎn)廠(chǎng)房?jì)鹊墓庹净蛏a(chǎn)廠(chǎng)房外的綜合動(dòng)力站內。

8.4.2 風(fēng)冷式空氣壓縮機及風(fēng)冷式干燥裝置的設備布置應防止冷卻空氣發(fā)生短路現象。

8.4.3 當干燥壓縮空氣輸送露點(diǎn)低于—76℃時(shí),可采用內壁電拋光不銹鋼管;當干燥壓縮空氣輸送露點(diǎn)低于—40℃時(shí),應采用不銹鋼管或鍍鋅碳鋼管。

8.4.4 壓縮空氣系統的管道設計應符合下列規定:

1 壓縮空氣主管道的直徑應按照全系統實(shí)際用氣量進(jìn)行設計,支干管道的直徑應按照局部系統實(shí)際用氣量進(jìn)行設計,支管道的直徑應按照設備最大用氣量進(jìn)行設計;

2 干燥壓縮空氣輸送露點(diǎn)低于—40℃時(shí),用于管道連接的密封材料宜選用金屬墊片或聚四氟乙烯墊片;

3 當設計軟管連接時(shí),宜選用金屬軟管。

8.4.5 工藝真空系統的設計應符合下列規定:

1 工藝真空設備的抽氣能力應按生產(chǎn)工藝所需實(shí)際用氣量及系統損耗量確定;

2 工藝真空設備應布置在生產(chǎn)廠(chǎng)房?jì)鹊囊粋€(gè)或多個(gè)供氣站內;

3 工藝真空設備應選用能耗少、噪聲低的設備;

4 工藝真空設備應根據工藝系統的實(shí)際情況選用水環(huán)式或干式真空泵;

5 工藝真空系統應設計真空壓力過(guò)低保護裝置。

8.4.6 工藝真空系統的管道設計應符合下列規定:

1 工藝真空管路設計應布置成支狀系統;

2 工藝真空主管道的直徑應按照全系統實(shí)際抽氣量進(jìn)行設計,支干管道的直徑應按照局部系統實(shí)際抽氣量進(jìn)行設計,支管道的直徑應按照設備最大抽氣量進(jìn)行設計;

3 工藝真空系統的管道材料宜根據工藝真空系統的真空壓力及真空特性選用不銹鋼管或厚壁聚氯乙烯管道;

4 當設計軟管連接時(shí),宜選用金屬軟管。

8.4.7 清掃真空系統宜選用移動(dòng)式清掃真空設備。


9供暖、通風(fēng)、空氣調節與凈化

9.1 一般規定

9.1.1 潔凈室的空氣潔凈度等級以及潔凈室形式應根據生產(chǎn)工藝對生產(chǎn)環(huán)境的要求確定。

9.1.2 潔凈室的氣流組織應根據潔凈度等級、生產(chǎn)工藝要求以及技術(shù)經(jīng)濟比較確定。

9.1.3 當出現下列情況之一時(shí),空氣凈化調節系統宜分開(kāi)設置:

1 生產(chǎn)工藝中散發(fā)的物質(zhì)對其他工序的產(chǎn)品質(zhì)量及人員安全衛生有影響;

2 溫濕度基數和允許波動(dòng)范圍差別大的潔凈室;

3 凈化空調系統和一般空調系統;

4 潔凈室內工藝設備發(fā)熱、散濕量相差懸殊的潔凈室;

5 系統風(fēng)量過(guò)大的凈化空調系統。

9.1.4 潔凈室內的新風(fēng)量應取下列兩項中的最大值:

1 補償室內排風(fēng)量和保持室內正壓值所需新風(fēng)量之和;

2 保證供給潔凈室內每人每小時(shí)的新風(fēng)量不小于40m3。

9.1.5 潔凈室與周?chē)目臻g應保持靜壓差,靜壓差應符合下列規定:

1 不同等級的潔凈室之間的靜壓差不宜小于5Pa;

2 潔凈室與非潔凈室之間的靜壓差不應小于5Pa;

3 潔凈室與室外的靜壓差應大于10Pa。

9.2 供暖、通風(fēng)與廢氣處理

9.2.1 供暖設計應符合現行國家標準《工業(yè)建筑供暖通風(fēng)與空氣調節設計規范》GB 50019的有關(guān)規定。

9.2.2 潔凈室內不應采用散熱器供暖。

9.2.3 寒冷和嚴寒地區各動(dòng)力站房應根據工藝要求設置值班供暖。

9.2.4 潔凈室內產(chǎn)生粉塵和有害氣體的工藝設備和輔助設備,均應設局部排風(fēng)裝置,排風(fēng)罩宜為密閉式。

9.2.5 排風(fēng)系統的設計應符合下列規定:

1 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積設備的尾氣應設就地處理裝置;

2 酸、堿排風(fēng)應獨立設置系統,風(fēng)機的電機應按一級負荷供電;

3 工藝設備的排風(fēng)系統應設置備用風(fēng)機;

4 有冷凝液產(chǎn)生的酸、堿排風(fēng)系統風(fēng)管宜設置坡度和排液口,且風(fēng)管系統應采取防液體滲漏措施;

5 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積設備的排風(fēng)系統應采取防火、防爆措施;

6 酸、堿、硅烷排風(fēng)系統的風(fēng)管不應穿越防火墻或通風(fēng)、空氣調節機房的隔墻和樓板,當必須穿越時(shí),不得設置熔片式防火閥;

7 酸、堿排風(fēng)系統的風(fēng)機應設在廢氣處理設備的下風(fēng)側;

8 工藝設備的排風(fēng)溫度高于60℃時(shí),排風(fēng)管應設保溫措施;

9 工藝設備局部排風(fēng)系統的室外風(fēng)管應根據當地氣象條件設置防結露保溫措施;

10 潔凈室的排風(fēng)系統應設置防止室外氣流倒灌的措施。

9.2.6 廢氣處理系統的設計,應符合下列規定:

1 酸、堿廢氣不得采用固定床吸附劑方式處理;

2 酸、堿廢氣宜采用淋洗方式處理,處理設備的填料層數、厚度和噴淋藥液循環(huán)量應計算確定;處理設備的加藥、補水和排污應采用自動(dòng)方式;處理設備宜就近設置日用藥箱;

3 兩臺及兩臺以上廢氣處理設備并聯(lián)運行時(shí),應在每臺設備的入口設置電動(dòng)或氣動(dòng)密閉風(fēng)閥;

4 寒冷地區或嚴寒地區使用的淋洗式廢氣處理裝置應采取防凍措施。

9.2.7 酸、堿廢氣經(jīng)處理后應經(jīng)排氣筒排入大氣,排氣筒高度應符合環(huán)境評估報告的要求,排氣筒出口處風(fēng)速宜大于或等于18m/s,并應符合現行國家標準《大氣污染物綜合排放標準》GB 16297的有關(guān)規定。

9.2.8 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積間應設置不低于12次/h的事故排風(fēng)。

9.2.9 使用氫氣房間的吊頂上部應設置通風(fēng)換氣措施,排風(fēng)量宜為1次/h~2次/h,吸風(fēng)口上緣至頂棚平面或屋頂的距離不應大于0.1m。

9.2.10 換鞋間應設置不低于10次/h的全室排風(fēng)系統,排風(fēng)口宜設置在下部;換鞋柜宜設置局部排風(fēng)措施;一次更衣間宜設置不低于5次/h的全室排風(fēng)系統

9.3 空氣調節與凈化

9.3.1 凈化空氣調節系統的新風(fēng)應進(jìn)行集中處理,新風(fēng)處理機組的設置應符合下列規定:

1 送風(fēng)機應采取自動(dòng)調速措施;

2 空氣宜經(jīng)過(guò)粗效、中效、高效過(guò)濾器三級處理;

3 新風(fēng)處理機組應有良好的氣密性,在工作壓力下的漏風(fēng)率不得大于1%。

9.3.2 光刻間凈化空氣調節系統的循環(huán)風(fēng)宜采用風(fēng)機過(guò)濾器機組和干冷卻盤(pán)管處理,其他潔凈室凈化空氣調節系統的循環(huán)風(fēng)宜采用循環(huán)空氣處理機組處理。

9.3.3 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積間的凈化空氣調節系統應獨立設置。

9.3.4 循環(huán)空氣處理機組宜采用干冷卻方式處理空氣。

9.3.5 循環(huán)空氣處理機組的風(fēng)機應采取自動(dòng)調速措施。

9.3.6 空調加熱、加濕系統的設計應利于工廠(chǎng)余熱的利用。

9.3.7 潔凈室的送風(fēng)量,應符合現行國家標準《潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50073的有關(guān)規定。

9.3.8 凈化空氣調節系統的新風(fēng)吸入口位置,應遠離排放有害物或可燃物的排氣口。

9.3.9 潔凈室的噪聲控制設計的噪聲級(空態(tài))應符合現行國家標準《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定,但當潔凈室采用風(fēng)機過(guò)濾器機組和干冷卻盤(pán)管處理循環(huán)空氣時(shí),單向流和混合流潔凈室的噪聲級(空態(tài))不應大于70dB(A),非單向流潔凈室的噪聲級(空態(tài))不應大于65dB(A)。

9.4 防排煙

9.4.1 生產(chǎn)廠(chǎng)房中防煙樓梯間、前室或合用前室宜設置自然排煙設施,當不能滿(mǎn)足自然排煙要求時(shí),應設置機械排煙系統。機械排煙系統的設置應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016的有關(guān)規定。

9.4.2 生產(chǎn)廠(chǎng)房中不具備自然排煙的疏散走廊,應設置機械排煙系統。

9.4.3 金屬有機化合物化學(xué)氣相沉積設備車(chē)間內應設置機械排煙系統,其他車(chē)間排煙系統的設置應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016和《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定。

9.4.4 潔凈室(區)的排煙系統應有防止室外氣流倒灌的措施,并應設置旁通管路用于平時(shí)巡檢。

9.4.5 潔凈室(區)內的排煙風(fēng)管當使用產(chǎn)塵的保溫材料進(jìn)行隔熱時(shí),應為具有雙層金屬板夾保溫材料構造的成品保溫風(fēng)管,保溫材料應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016的有關(guān)規定。內層金屬板的厚度應符合現行國家標準《通風(fēng)與空調工程施工質(zhì)量驗收規范》GB 50243的有關(guān)規定。


10給水排水

10.1 一般規定

10.1.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)的給水排水設計應符合現行國家標準《建筑給水排水設計規范》GB 50015的有關(guān)規定,并應符合下列規定:

1 設有技術(shù)夾層的發(fā)光二極管工廠(chǎng),其廠(chǎng)房?jì)鹊慕o水排水干管應敷設在技術(shù)夾層內;

2 潔凈室內不宜穿過(guò)與該潔凈室無(wú)關(guān)的給排水管道,當必須穿過(guò)時(shí),應采取可靠的防滲漏、防結露措施。

10.1.2 廢水管道不宜直接敷設在首層結構板下,當必須直接敷設時(shí),應采取可靠的防滲漏措施。

10.2 一般給水排水

10.2.1 應根據生產(chǎn)工藝對水質(zhì)、水溫、水壓、水量的要求確定給水系統。

10.2.2 下列場(chǎng)所應設置緊急淋浴器或洗眼器:

1 危險化學(xué)品儲存、配置區域;

2 可能產(chǎn)生化學(xué)品泄漏的區域;

3 毒性、腐蝕性氣體的特種氣體間。

10.2.3 緊急淋浴器或洗眼器的服務(wù)半徑不宜大于15m,且服務(wù)半徑內不應有障礙物。

10.2.4 給水、排水管道的管材應符合下列規定:

1 給水管道的材質(zhì)及接口應滿(mǎn)足生產(chǎn)工藝對水質(zhì)、水壓、水溫等的要求;

2 排水管道的材質(zhì)及接口應滿(mǎn)足生產(chǎn)廢水水質(zhì)的要求。

10.2.5 排水收集系統的設置應符合下列規定:

1 生產(chǎn)廢水、生活污水系統應分別設置;

2 不同污染物的生產(chǎn)廢水宜分別設置;

3 廢水與廢液應分別設置;

4 含有砷及其他重金屬污染物的廢水應單獨設置收集系統。

10.2.6 生產(chǎn)廢水收集系統宜設置通氣管,通氣管應高出屋面2m。

10.2.7 雨水系統應符合現行國家標準《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定。

10.2.8 潔凈室(區)內地漏等排水設施的設置,應符合現行國家標準《潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50073的有關(guān)規定。

10.2.9 廠(chǎng)區化學(xué)品存儲、分配、收集、卸貨區域應設置事故排水的儲存設施。

10.2.10 當設有廢水收集槽且采用提升泵輸送廢水時(shí),廢水提升泵宜設置應急備用電源。

10.3 純 水

10.3.1 純水系統的設計應符合現行國家標準《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定,并應符合下列規定:

1 純水系統的水質(zhì)應根據生產(chǎn)工藝的要求確定;

2 純水系統供水管網(wǎng)的循環(huán)回流水量不宜小于設計供水量的20%;

3 純水制備系統及供水管網(wǎng)的回收率應根據項目實(shí)際情況確定;

4 純水供給管路系統的布置應確保用水點(diǎn)的水質(zhì)。

10.3.2 純水制備區域的排水管道應確保制水設備瞬時(shí)排水能得到及時(shí)排除。

10.4 工藝冷卻循環(huán)水

10.4.1 工藝設備冷卻循環(huán)水的水質(zhì)、水溫、水壓應根據生產(chǎn)設備要求確定。

10.4.2 工藝冷卻循環(huán)水系統宜采用開(kāi)式系統。

10.4.3 工藝冷卻循環(huán)水系統的管材及配件應根據水質(zhì)要求確定,不宜采用焊接鋼管。

10.4.4 當工藝冷卻水系統的水溫要求與管道布置的環(huán)境溫度不同時(shí),管道系統應采取保溫措施。

10.4.5 工藝冷卻水系統應設置應急備用電源。

10.4.6 工藝冷卻水的補水水質(zhì)應滿(mǎn)足工藝設備的要求。

10.5 廢水處理

10.5.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)的廢水處理應符合現行國家標準《電子工程環(huán)境保護設計規范》GB 50814的有關(guān)規定,并應符合下列規定:

1 應根據廢水水量、水質(zhì)及排放標準等確定處理流程;

2 廢水處理設施及末端排放宜設置在線(xiàn)監測儀表;

3 處理系統采用的管材宜與收集系統一致。

10.5.2 含砷及其他重金屬的廢水應單獨設置處理系統。

10.6 消 防

10.6.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)應設置消防給水系統。

10.6.2 消防給水系統的設置應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016及《自動(dòng)噴水滅火系統設計規范》GB 50084的有關(guān)規定,并應符合下列規定:

1 潔凈室生產(chǎn)區應設置室內消火栓;

2 潔凈生產(chǎn)區應設置自動(dòng)噴水滅火系統,噴水強度不應小于8L/min·m2,作用面積不應小于160m2;潔凈室或潔凈區內向下氣流區域內應采用快速反應噴頭;

3 特種氣體站、硅烷站的消防設計應符合現行國家標準《特種氣體系統工程技術(shù)規范》GB 50646的有關(guān)規定。

10.6.3 設置固定滅火裝置的倉庫,應按現行國家標準《自動(dòng)噴水滅火系統設計規范》GB 50084的有關(guān)規定執行。

10.6.4 潔凈區內宜配置的手提二氧化碳滅火器不應對潔凈環(huán)境產(chǎn)生破壞,廠(chǎng)房?jì)绕溆鄨?chǎng)所配置的滅火器應符合現行國家標準《建筑滅火器配置設計規范》GB 50140的有關(guān)規定。


11電氣

11.1 供配電與照明

11.1.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)的用電負荷等級和供電,應根據生產(chǎn)工藝及設備要求確定,并應符合現行國家標準《供配電系統設計規范》GB 50052的有關(guān)規定。

11.1.2 主要生產(chǎn)工藝設備宜由專(zhuān)用變壓器或專(zhuān)用低壓饋電線(xiàn)路供電,當對斷電時(shí)間或電源質(zhì)量有特殊要求時(shí),工作電源宜設置不間斷電源(UPS)或其他提高電源質(zhì)量的設備。

11.1.3 發(fā)光二極管工廠(chǎng)低壓配電電壓應符合生產(chǎn)工藝設備用電要求。配電系統接地的型式宜采用TN-S或TN-C-S系統。

11.1.4 發(fā)光二極管工廠(chǎng)的消防用電負荷分級及供電要求,應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016的有關(guān)規定。

11.1.5 潔凈室內應選擇不易積塵、便于擦拭的配電設備。

11.1.6 發(fā)光二極管廠(chǎng)房的電氣管線(xiàn)敷設在潔凈室內時(shí)宜暗敷。穿線(xiàn)導管應采用不燃材料。潔凈區內的電氣管線(xiàn)管口及安裝于墻上的各種電器設備與墻體接縫處應有可靠的密封措施。

11.1.7 發(fā)光二極管廠(chǎng)房?jì)纫兹?、易爆氣體或液體的入口室、輔助間的電氣設計應根據易燃、易爆氣體或液體的特性確定,并應符合現行國家標準《爆炸危險環(huán)境電力裝置設計規范》GB 50058的有關(guān)規定。

11.1.8 潔凈室內照明光源,宜采用高效熒光燈。當工藝有特殊要求或照度值達不到設計要求時(shí),也可采用其他形式光源。

11.1.9 潔凈室內一般照明燈具宜為吸頂明裝或嵌入頂棚暗裝。當嵌入頂棚暗裝時(shí),其安裝縫隙應有可靠的密封措施,同時(shí)應便于燈管維修和更換。

11.1.10 發(fā)光二極管廠(chǎng)房潔凈室(區)的主要生產(chǎn)用房一般照明的照度值應根據工藝生產(chǎn)的要求確定,并應符合現行國家標準《建筑照明設計標準》GB 50034的有關(guān)規定。

11.1.11 廠(chǎng)房?jì)葢O置供人員疏散用的應急照明。在安全出口、疏散口和疏散通道轉角處設置疏散標志應符合現行國家標準《建筑設計防火規范》GB 50016的有關(guān)規定。在專(zhuān)用消防口處應設置紅色應急照明燈。

11.2 防雷與接地

11.2.1 發(fā)光二極管廠(chǎng)房的防雷系統設計應符合現行國家標準《建筑物防雷設計規范》GB 50057和《建筑物電子信息系統防雷技術(shù)規范》GB 50343的有關(guān)規定。

11.2.2 發(fā)光二極管廠(chǎng)房生產(chǎn)設備的功能接地電阻不宜大于1Ω,有特殊接地要求的設備,應滿(mǎn)足設備要求的接地電阻值。

11.2.3 功能性接地、保護性接地、電磁兼容性接地、建筑防雷接地、防靜電接地宜采用共用接地系統,并應遵循等電位聯(lián)結的原則,接地電阻值應按其中最小值確定,且不宜大于1Ω。

11.2.4 選擇分散接地方式時(shí),各種功能接地系統的接地體應遠離防雷接地系統的接地體。分開(kāi)設置的接地系統接地極與共用接地系統接地極應保持20m及以上的間距。

11.3 自 控

11.3.1 發(fā)光二極管廠(chǎng)房環(huán)境和公用動(dòng)力設備監控系統宜采用集散或分布式網(wǎng)絡(luò )結構,系統應易于擴展和維護,并應具備顯示、記錄、控制、報警、分析和提示功能。

11.3.2 潔凈區與非潔凈區之間應設置壓差變送器,潔凈區與非潔凈區之間的壓差宜為5Pa。當潔凈區凈化空調選用變頻風(fēng)機時(shí),設備監控系統應根據潔凈區與非潔凈區之間的壓差設定值調節風(fēng)機轉速。

11.3.3 空調系統的電加熱器應設有無(wú)風(fēng)、超溫斷電保護;當采用電加濕器時(shí),應設有無(wú)水保護。

11.4 通 信

11.4.1 潔凈室(區)內應設置內外聯(lián)系的語(yǔ)音通信設施。

11.4.2 潔凈室(區)內應根據管理及工藝的需要設置數據通信插座。

11.4.3 語(yǔ)音和數據通信線(xiàn)路宜采用綜合布線(xiàn)系統,其配線(xiàn)及管理設備不宜設在潔凈室(區)內。

11.5 安全防護

11.5.1 發(fā)光二極管工廠(chǎng)應設火災自動(dòng)報警及消防聯(lián)動(dòng)控制系統,系統的設置應符合現行國家標準《火災自動(dòng)報警系統設計規范》GB 50116的有關(guān)規定,并應符合下列規定:

1 潔凈廠(chǎng)房的潔凈室(區)及輔助建筑均應設智能型火災探測器;

2 當潔凈室(區)點(diǎn)式探測器設置條件不能滿(mǎn)足現行規范設計要求時(shí),宜選擇吸氣式空氣采樣早期煙霧探測系統;

3 潔凈室(區)出入口內外均應設置手動(dòng)火災報警按鈕;

4 潔凈室(區)內主入口應設消防專(zhuān)用電話(huà)分機;

5 潔凈室(區)的消防聯(lián)動(dòng)控制應符合現行國家標準《電子工業(yè)潔凈廠(chǎng)房設計規范》GB 50472的有關(guān)規定;

6 潔凈室(區)的空調及排煙系統聯(lián)動(dòng)控制應在火災核實(shí)并確認后,控制室或現場(chǎng)手動(dòng)控制。

11.5.2 發(fā)光二極管工廠(chǎng)特種氣體應設泄漏監控及安全系統,系統的設置及聯(lián)動(dòng)控制應符合現行國家標準《特種氣體系統工程技術(shù)規范》GB 50646的有關(guān)規定。

11.5.3 發(fā)光二極管工廠(chǎng)化學(xué)品的儲存場(chǎng)所應設置視頻監控與門(mén)禁設施。

11.5.4 發(fā)光二極管工廠(chǎng)應設置應急廣播,潔凈室(區)內揚聲器的選擇不應對潔凈區域的潔凈度造成影響。


12防靜電

12.1 一般規定

12.1.1 發(fā)光二極管生產(chǎn)廠(chǎng)房應根據生產(chǎn)工藝要求設置防靜電工作區。防靜電工作區設計應滿(mǎn)足環(huán)境控制靜電放電、防止靜電危害事故的要求。

12.1.2 防靜電工作區設計應按照發(fā)光二極管生產(chǎn)工序的要求進(jìn)行分級。防靜電工作區靜電電位絕對值應小于產(chǎn)品的靜電電位安全值。

12.1.3 發(fā)光二極管防靜電工作區設計分級標準適用工序可按表12.1.3確定。

表12.1.3 發(fā)光二極管生產(chǎn)廠(chǎng)房防靜電工作區設計分級標準適用工序

防靜電級別靜電電位絕對值(V)適用工序

二級≤200裂片、繃片、分類(lèi)篩選

三級≤1000

注:1 發(fā)光二極管制造設備可按防靜電工作區設計分級三級標準設計;

2 成品庫成品貨架可按防靜電工作區設計分級三級標準設計。

12.1.4 發(fā)光二極管生產(chǎn)廠(chǎng)房防靜電工作區的設計應符合現行國家標準《電子工程防靜電設計規范》GB 50611的有關(guān)規定。

12.2 防靜電措施

12.2.1 發(fā)光二極管生產(chǎn)廠(chǎng)房防靜電工作區中,防靜電地面應符合下列規定:

1 防靜電地面的表層應采用導靜電材料或靜電耗散性材料,其表面電阻應為2.5×104Ω~1.0×109Ω;

2 防靜電地面應設置靜電泄放導電層和接地連接,其對地電阻應為2.5×104Ω~1.0×109Ω;

3 防靜電地面應具有可靠的靜電泄放接地系統;地面導電層接地引出點(diǎn)不應少于2處,且相鄰間距不應大于25m。

12.2.2 當防靜電工作區含有吊頂和墻、柱面時(shí),其裝飾應符合下列規定:

1 吊頂和墻、柱面裝飾的罩面板應選用導靜電材料或靜電耗散性材料制作,罩面板的表面電阻應為2.5×104Ω~1.0×109Ω;

2 二級防靜電工作區的墻、柱面不設置導電層時(shí),應涂刷防靜電涂層,或裝飾靜電耗散層,其表面電阻不應大于1.0×109Ω;

3 頂棚和墻、柱面裝飾有導電層要求時(shí),應制定合理的導電層方案,采用十字型構造銅箔或設置多點(diǎn)間接接地的接點(diǎn)。當頂棚和墻、柱面裝飾設置基層骨架時(shí),骨架應選用金屬材料制作,金屬骨架應接地。接地連接點(diǎn)的設置每個(gè)房間不應少于4處,相鄰連接點(diǎn)之間距離不應大于18m。

12.2.3 當防靜電工作區含有門(mén)窗時(shí),設計應符合下列規定:

1 二級防靜電工作區應選用靜電耗散性材料制作門(mén)或采用靜電耗散性材料貼面;三級防靜電工作區可采用低起電材料制作,其摩擦起電電壓絕對值不應大于1000V;

2 室內隔斷和觀(guān)察窗安裝大面積玻璃時(shí),其表面應粘貼靜電耗散性透明薄膜,或噴涂靜電耗散性涂層。

12.2.4 防靜電工作區的其他裝修設計應符合下列規定:

1 各類(lèi)裝修材料應具有表面靜電耗散性能,不得使用未經(jīng)表面改性處理的高分子絕緣材料;

2 各類(lèi)裝修的飾面應平整光滑。

12.2.5 防靜電工作區的空氣調節系統送風(fēng)口和風(fēng)管應選用導電材料制作,并應防靜電接地。

12.2.6 防靜電工作區的空氣調節系統、各種配管當使用部分絕緣性材質(zhì)時(shí),應在配管表面安裝緊密結合的金屬網(wǎng),并應將金屬網(wǎng)接地。使用導電性非金屬軟管時(shí),應在軟管上安裝與其緊密結合的接觸面積不小于20cm2的金屬導體,并應用接地引線(xiàn)與金屬導體可靠連接后接地。

12.2.7 防靜電工作區的送風(fēng)口和各種管道的輸出入口裝置,與配管系統之間應有可靠的電氣連接,并應可靠接地。送風(fēng)口和各種管道的輸出入口裝置表面應涂刷防靜電涂層,或按工藝要求進(jìn)行防靜電處理。

12.2.8 防靜電工作區應根據生產(chǎn)工藝的需要設置靜電消除器、防靜電安全工作臺。

12.3 防靜電接地

12.3.1 防靜電工作區頂棚、墻面、地面的防靜電接地,人體防靜電接地,操作裝置和儀器的防靜電接地,應分別選擇適當位置設置接地連接裝置。接地連接裝置可使用易于裝拆的各種夾式連接器,但應保證電氣連接可靠。

12.3.2 防靜電工作區內應設置防靜電接地端子板、接地網(wǎng)格,或截面積不小于100mm2的閉合接地銅排環(huán)。防靜電接地引線(xiàn)應從防靜電接地端子板、接地網(wǎng)格或閉合銅排環(huán)上就近接地,接地引線(xiàn)應使用多股銅線(xiàn),導線(xiàn)截面積不應小于1.5mm2。

12.3.3 防靜電接地系統在接入大地前應經(jīng)總等電位接地端子板或樓層接地端子板引至接地網(wǎng)。

12.3.4 防靜電接地宜選擇聯(lián)合接地方式。當選擇單獨接地方式時(shí),接地電阻值不應大于10Ω,并與防雷接地裝置保持不小于20m的間距。

12.3.5 爆炸危險和火災危險環(huán)境的各種流動(dòng)液體、氣體或粉體管道安裝的防靜電措施應符合現行國家標準《工業(yè)金屬管道設計規范》GB 50316的有關(guān)規定。


13空間管理

13.1 一般規定

13.1.1 空間管理設計應滿(mǎn)足工藝設備和公用設備的外型尺寸、平面布置、運行、維修及其管線(xiàn)安裝要求。

13.1.2 潔凈生產(chǎn)層凈高應按照生產(chǎn)設備和物料運輸設備尺寸、微環(huán)境裝置及潔凈氣流控制等因素確定,不宜低于3m。

13.1.3 上技術(shù)夾層凈高應按照空調設備、管線(xiàn)布置、潔凈氣流控制等因素確定,不宜低于2m。

13.2 管線(xiàn)布置

13.2.1 管線(xiàn)布置應符合下列規定:

1 管線(xiàn)布置應滿(mǎn)足生產(chǎn)工藝、安全間距和維修要求;

2 管線(xiàn)布置不應影響工藝設備搬入和物料運輸;

3 管線(xiàn)之間及管線(xiàn)與建筑物墻壁、溝壁或立柱間凈距應滿(mǎn)足管線(xiàn)安裝操作要求;

4 各種管線(xiàn)宜成排布置,單排管線(xiàn)宜按照管線(xiàn)材質(zhì)及壓力和重力管線(xiàn)分組;

5 壓力管線(xiàn)與重力管線(xiàn)交叉時(shí)壓力管線(xiàn)應避讓重力管線(xiàn);

6 臨時(shí)性管線(xiàn)應避讓永久性管線(xiàn)。

13.2.2 管線(xiàn)布置自上至下宜按照消防管線(xiàn)、電氣管線(xiàn)、水氣管線(xiàn)、風(fēng)管的順序布置。

13.2.3 管線(xiàn)布置應滿(mǎn)足各專(zhuān)業(yè)系統布置的要求。

13.2.4 氧氣、氫氣管線(xiàn)與其他管線(xiàn)間距應符合現行國家標準《氧氣站設計規范》GB 50030、《氫氣站設計規范》GB 50177和《大宗氣體純化及輸送系統工程技術(shù)規范》GB 50724的有關(guān)規定。

13.2.5 特種氣體管線(xiàn)、化學(xué)品供應管線(xiàn)宜成排布置,且宜布置在槽架內,槽架與其他管線(xiàn)凈距不宜小于200mm。

13.2.6 落地安裝的管線(xiàn)應滿(mǎn)足閥門(mén)、法蘭、過(guò)濾器等管道附件的安裝要求,管底或保溫層底距地面不應小于150mm。

13.2.7 技術(shù)夾層內的管線(xiàn)布置應符合下列規定:

1 技術(shù)夾層管線(xiàn)布置應按照工藝設備布置統籌規劃;

2 技術(shù)夾層管線(xiàn)布置宜預留檢修通路;

3 上技術(shù)夾層管線(xiàn)布置應滿(mǎn)足風(fēng)機過(guò)濾器機組、高效過(guò)濾器、超高效過(guò)濾器等設備的安裝及檢修要求。

13.2.8 管線(xiàn)宜布置在上技術(shù)夾層和技術(shù)夾道,當布置在潔凈室內時(shí)應滿(mǎn)足工藝設備的運行及檢修要求。

13.2.9 特種氣體管線(xiàn)、危險氣體管線(xiàn)、化學(xué)品供應管線(xiàn)等宜布置在潔凈生產(chǎn)層。


附錄A 發(fā)光二極管典型生產(chǎn)環(huán)境要求

表A 發(fā)光二極管典型生產(chǎn)環(huán)境要求


附錄B 發(fā)光二極管生產(chǎn)工藝動(dòng)力品質(zhì)要求

B.0.1 發(fā)光二極管生產(chǎn)工藝動(dòng)力品質(zhì)(氣體)要求可按表B.0.1執行。

表B.0.1 工藝動(dòng)力品質(zhì)(氣體)要求

注:表中所列數值為參考值,根據選擇的設備不同,會(huì )有差別。

B.0.2 發(fā)光二極管生產(chǎn)工藝動(dòng)力品質(zhì)(水)要求可按表B.0.2執行。

表B.0.2 工藝動(dòng)力品質(zhì)(水)要求


附錄C 發(fā)光二極管生產(chǎn)的典型工藝流程

C.1 整體流程

C.1.1 發(fā)光二極管生產(chǎn)宜包括外延片生長(cháng)、管芯(芯片)制造、管芯(芯片)封裝三部分。

C.1.2 發(fā)光二極管生產(chǎn)可采用圖C.1.2所示基本工藝流程。


C.1.2 發(fā)光二極管生產(chǎn)基本工藝流程